M6 JETSTREAM用于文物樣品檢測(cè)
主要特點(diǎn)：
1.M6 JETSTREAM不僅可以分析水平放置的樣品，還可以分析垂直放置的樣品。
2.在高激發(fā)強(qiáng)度以及樣品臺(tái)的快速移動(dòng)情況下，仍可實(shí)現(xiàn)快速檢測(cè)。
3.M6 JETSTREAM的光斑大小可以在5步之內(nèi)，根據(jù)樣品結(jié)構(gòu)及所需空間分辨率調(diào)整到相應(yīng)的尺寸。
4.采用布魯克*的XFlash®硅漂移探測(cè)器，該探測(cè)器具有很高的計(jì)數(shù)率能力，在很寬的計(jì)數(shù)率范圍內(nèi)擁有的能量分辨率。
5.特別的安全電路為用戶(hù)提供的X射線(xiàn)輻射風(fēng)險(xiǎn)防范措施。
6.超聲波測(cè)距措施可以防止儀器與被測(cè)樣品發(fā)生碰撞。
7.由于M6 JETSTREAM的可移動(dòng)性，不論樣品結(jié)構(gòu)如何，它都可以很容易的準(zhǔn)確定位。另外，M6 JETSTREAM可以很方便的拆卸成四部分，使其便于攜帶。

X射線(xiàn)熒光能譜儀M4 TORNADO

儀器簡(jiǎn)介：
   微區(qū)X射線(xiàn)熒光光譜分析技術(shù)是對(duì)不均勻樣品、不規(guī)則樣品、甚至小件樣品和包裹物進(jìn)行高靈敏度的、非破壞性的元素分析的*方法。采用多導(dǎo)毛細(xì)管聚焦鏡將激 發(fā)光聚焦到非常小的區(qū)域，以獲得的空間分辨率，進(jìn)行快速分析。任何類(lèi)型的樣品都可以通過(guò)簡(jiǎn)單的樣品制備甚至不制備直接進(jìn)行分析。

測(cè)定鍍層樣品厚度及成分

   采用X射線(xiàn)熒光技術(shù)的M4可以分析薄鍍層樣品，如印刷電路板、金屬或塑料件，包括單層鍍層和多層鍍層。XSpect軟件采用無(wú)標(biāo)樣基本參數(shù)法，可以同時(shí)計(jì)算鍍層厚度和鍍層組成。使用標(biāo)準(zhǔn)樣品進(jìn)一步提高定量分析的準(zhǔn)確性

RoHS檢測(cè)

    測(cè)量一個(gè)PCB樣品。u安蘇的面分布圖顯示了下列元素的分布情況：Br(綠色）、Cu（紅色）、Au（黃色）、Pb（白色）和Sn（粉紅色）

圖像的原始大小：250×75像素

測(cè)量時(shí)間：0.15s/像素

 

主要特點(diǎn)：
  M4 TORNADO采用了全新的技術(shù)，為各種用戶(hù)提供了的分析性能和非常方便的操控性。
  采用多導(dǎo)毛細(xì)管聚焦鏡，照射光斑zui小，空間分辨率zui高。
  渦輪增速X-Y-Z樣品臺(tái)，借助放大倍數(shù)可變的攝像系統(tǒng)獲得高品質(zhì)的樣品影像，可在“飛行中”進(jìn)行元素分布分析。

  高強(qiáng)度的X射線(xiàn)光管與多導(dǎo)毛細(xì)管聚焦鏡相結(jié)合，確保在非常小的照射區(qū)域內(nèi)獲得非常高的激發(fā)強(qiáng)度。采用濾光片和可以同時(shí)使用的配有不同靶材的雙光管，可以根據(jù)不同的分析要求，優(yōu)化激發(fā)光譜。
  使用XFlash®探測(cè)器超高速地獲取樣品圖譜，另外，使用多個(gè)探測(cè)器可以進(jìn)一步提高測(cè)量速度。
采用無(wú)標(biāo)樣分析法精確定量分析塊狀樣品，精確分析多層膜樣品。

  可抽真空的樣品室配有自動(dòng)門(mén)，大尺寸的樣品室可以放置各種尺寸的樣品。通過(guò)兩個(gè)放大倍數(shù)可變的攝像系統(tǒng)觀察樣品（整體觀察和分析區(qū)域的細(xì)致觀察），便捷進(jìn)樣功能和自動(dòng)對(duì)焦功能可以進(jìn)行快速而精確的定位。通過(guò)用戶(hù)編輯的X-Y-Z樣品臺(tái)運(yùn)行程序可實(shí)現(xiàn)重復(fù)測(cè)量。